多晶硅生產剛需:德高潔自動化清洗系統保障電子級潔凈度

    時間:2025-06-17 17:04:00作者:LeeZhou來源:德高潔清潔設備分享到:QQ空間新浪微博騰訊微博人人網微信

    多晶硅還原爐鐘罩表面易沉積副產物,影響生產質量,需定期清洗。人工清洗因殘留物具腐蝕性、反應放熱易引發安全隱患,且需嚴格操作。德高潔研發自動化高壓水清洗系統,由多裝置組成,通過水力驅動三維噴頭 360° 清洗,搭配堿液、純水沖洗及熱風烘干,全流程自動化。系統采用 PLC 控制,可調節參數,全封閉作業避免污染。

    多晶硅是光伏行業和微電子行業的基礎材料,生產多晶硅主要采用改良西門子法,改良西門子法生產多晶硅的反應器主要采用多晶硅還原爐。在多晶硅生產過程中,還原爐鐘罩表面上會沉積一定厚度的多晶硅副產物、硅粉等。但多晶硅生產對還原爐沉積環境的潔凈度要求特別關鍵,任何顆粒性雜質、物料等物質余留在爐內,都會對產品質量造成影響。所以在還原爐運行一個周期結束后,需要對還原爐鐘罩內部進行徹底清洗后,再進行下一個周期的化學氣相沉積。

    一、多晶硅還原爐鐘罩內部殘留清洗原理及挑戰

    殘留物的主要化學成分是Si,能和氫氧化鈉發生氧化還原反應,其他物質有SiO2、(HSiO)2O等,均含弱酸性易與氧化鈉溶液發生中和反應。利用氫氧化鈉溶液,將緊密附著在還原爐內表面的膜狀沉積物腐蝕以便清理,在此清洗原理下,對多晶硅還原爐清洗時需要面臨以下問題:
     
    鐘罩內壁污染

    1、因還原爐內殘留物及清洗液均為具有腐蝕性的化學物質,同時在清洗中殘留氯硅烷會發生水解伴有氫氣產生,且水解反應為強烈的放熱反應,容易產生爆鳴燃燒。因此,人工清洗過程中具有一定的安全隱患,清洗過程中必須穿戴好勞保用品,并佩戴防護手套;
    2、人工用氧化鈉溶液擦洗還原爐鐘罩時,必須操作要緩慢以免摩擦生熱引起著火;
    3、清洗中要保證將鐘罩烘烤干避免有殘留水分,影響下一批次的生產周期及產品質量。

    二、多晶硅還原爐鐘罩內部自動清洗方式

    由于多晶硅還原爐鐘罩的清洗存在一定的安全隱患,行業內需要提供一套安全高效的清洗方式,德高潔結合多晶硅生產工藝及設備需求,獨立自主研發了一套自動化高壓水多晶硅還原爐鐘罩清洗系統,其由高壓熱水動力清洗裝置,熱風凈化烘干機組、清洗烘干工作臺、PLC電氣控制系統等組成,自動化完成還原爐鐘罩內部的清洗及烘干流程,減少人工投入,提高清洗效率、質量、環保、安全等性能。

    自動化高壓水多晶硅還原爐鐘罩清洗系統整個清洗流程包括:還原爐鐘罩到位→預清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高純水沖洗→凈化熱空氣干燥→常溫干燥→鐘罩吊走。其工作原理是以水力自驅動三維自動旋轉噴頭,形成360°的網狀噴射表面,完成鐘罩內部表面的水力掃射,用專用清洗劑等為主要清洗液,用純水(去離子水或叫脫鹽水)漂洗,最后用高純水沖洗后烘干,最終完成整個清洗過程。
     
    德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗機構

    還原爐鐘罩清洗過程中,一次吊裝在一個工作臺上完成全部清洗、烘干過程,清洗時鐘罩底部法蘭和清洗平臺組成一個全封閉空間,避免高壓水射流噴射出鐘罩外,對周圍環境及工作人員健康的負面影響。德高潔多晶硅還原爐鐘罩自動清洗系統,采用PLC電氣控制系統,可根據多晶硅實際生產實況調整清洗壓力、流量及清洗時間,在保障清洗質量的同時,節約水資源的浪費,系統同時具有半自動或手動功能,提高工人的適應性。

    德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統操作簡單,設備安全穩定,其核心部件、元件和附件原裝進口保證了電子級多晶硅鐘罩清洗系統性能的可靠,可以在一套系統實現多種型號鐘罩的清洗烘干。目前,德高潔在多晶硅還原爐清洗行業已擁有國內90%的用戶,為多晶硅行業提供了幾十套還原爐清洗系統,經驗豐富,技術可靠。
     
    德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統

    德高潔作為一家專業的環保清潔設備供應商,在環保除塵、凈化、工業設備清潔領域已積累了近三十年的業內寶貴經驗,自2007年便致力于研發高效率、高環保、高質量的自動化系統,期間自主研發并投入使用了一系列高壓水自動化清洗系統,可對液壓支架、噸桶、罐車、反應釜、罐式集裝箱、儲罐、發酵罐、多晶硅還原爐鐘罩等設備進行自動化清洗,并結合企業實際生產工況,提供可定制化自動清洗解決方案,做到以客戶需求為基準,用現代技術、標準工藝,竭誠為客戶服務。

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